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Schutz, F., Bedin, L.M. e Sarriera, J.C. 2020. Propriedades Psicométricas da Escala de Presença em Tecnologias Ubíquas. Psico. 51, 2 (fev. 2020), e31628. DOI:https://doi.org/10.15448/1980-8623.2020.2.31628.